Photoresist erdieroalea premiazkoa da!Japoniako Lurrikararen kate-erreakzioak erakusten du TSMC eta UMC ere ezinegona daudela) Japoniako ipar-ekialdeko 213 lurrikarak fotorresistentzia premiazko hornidura eragin zuen, Japoniako enpresaburuek nagusi den erdieroaleen funtsezko kontsumigarri bat, merkatuaren %80 inguru hartzen duena.Xinyue bezalako hornitzaile handien ekoizpena eta atzerriko hornidura blokeatu egin ziren, eta Shinyuek lantegia ixtea ere iragarri zuen.TSMC eta UMC bezalako obleen konpainia handiek Japoniako fabrikatzaileei eskatzen diete produkzioa eta hornidura zuzenean Taiwanen, Txinan, azkartzeko, eta horrela arriskua zabalduz.

Taiwango "Ekonomiaren Eguna Bao"-ren txosten baten arabera, Japoniako ipar-ekialdean izandako 213 lurrikara indartsuak fotorresistentziaren hornidura premiazko hornidura ekarri zuen, merkatuaren % 80 inguru japoniar enpresaburuek nagusi den erdieroale erdieroalea den kontsumigarri bat, ekoizpenean eta atzerriko hornikuntzan etenaldiak barne. Xinyue bezalako hornitzaile nagusiek.Shinyuek lantegiaren itxiera ere iragarri zuen.TSMC eta UMC bezalako obleen konpainia handiek Japoniako fabrikatzaileei eskatzen diete produkzioa eta hornidura zuzenean Taiwanen, Txinan, azkartzeko, eta horrela arriskua zabalduz.

Ulertzen da fotorresistentziak, erdieroaleen oinarrizko kontsumigarri gisa, zuzenean eragiten duela obleen etekinean eta kalitatean.2019ko urtarrilean, TSMC-k fotorresistentzia estandarra erabili zuen, eta, ondorioz, ia 100.000 oblea hondatu ziren, eta ia 15.000 mila milioi yuaneko diru-sarrerak eragin zituen, eta obleen ekoizpenean fotorresistentziak duen garrantzia nabarmendu zuen.Gertaeraren ostean, TSMCk asko handitu zituen kalitate-kontrolerako eta funtsezko materialen hornidurarako baldintzak.

Gaur egun, fotorresistentzia-merkatu globala Japoniako fabrikatzaileak dira nagusi, merkatuaren % 80 hartzen baitute, prezioen gorabehera gutxirekin.Horien artean, % 20 baino gehiago Shinyue-k antolatzen du, eta Taiwaneko erdieroaleen fabriken prozesu aurreratu eta berrien % 50 baino gehiagok Xinyue-ren fotorresistentzia produktuak erabiltzen ditu.Japoniako beste hornitzaile ezagun batzuk JSR, Dongying, etab., Sumitomo Chemical eta Fuji Film ere aktiboki parte hartzen dute.

Industriak adierazi duenez, photoresist ziurtagiriaren ondoren produkzio-lerroa normalean ez da urte osoan aldatzen berriro garbitzea eta ekoizpena eragitea saihesteko, beraz, ez da erraza materiala erabaki ondoren aldatzea, eta normalean eskaeraren arabera negoziatzen da. aurreko urtean, behin aldaketa gertatuz gero, ekoizpenaren kalitateari eragingo zaiolako.Duela gutxi, erdieroaleen eskaintza eskaria baino txikiagoa da, eta fotoerresistentearen eskaintza eskasa dagoenez, erdieroaleen eskasia larriagoa izan daiteke.

Antzeko trama bat errepikatzen da.Japoniako lurrikararen tximeleta efektuak eragin handia izan dezake.

Erdieroaleen fabrikazio globalaren gaur egungo leku nagusia denez, industriak historiako eskasia krisirik handienari aurre egiten dioen premisapean, Japoniako lurrikarak eragindako tximeleta efektua espero baino zabalagoa izan daiteke.

SEMIren arabera, Japoniako enpresek erdieroaleen materialen merkatuaren ehuneko 52 inguru hartzen dute eta ekipamenduen fabrikazioan ehuneko 30 inguru.Japoniako erdieroaleen industriaren banaketaren ikuspuntutik, Japoniako erdieroaleen industria Kanto, Tohoku eta Kyushu-n kontzentratzen da nagusiki, Shinyue Chemical, SUMCO, Renesa Electronics, Shexia, Sony eta Japoniako etxeko ekoizpen-oinarri batzuk batez ere goian kokatzen diren bitartean. -Aipatutako eremuak.

2011ko martxoaren 11n, Japoniako ipar-ekialdeko Ozeano Barean lurrikara gogor bat gertatu zen, Japoniako ipar-ekialdeko Iwate, Miyagi eta Fukushima prefekturetan kalte izugarriak eragin zituen tsunami erraldoi bat eragin zuen eta Fukushima Daiichi zentral nuklearrean ihes nuklearra eragin zuen.Ondorioz, eskala handiko elektrizitate etenek eta trafikoaren etenek eragin handia izan dute Japoniako erdieroaleen ekoizpenean.

Garai hartan, Shinyue Chemical-ek Fukushimako bi lantegitan ekoizteari utzi zion, garai hartan obleen ahalmen globalaren ehuneko 25 inguru hartzen baitzuen;Renesaseko zazpi lantegik produkzioa itxi zuten aldi baterako eta edukieraren % 40 inguru kaltetu zen.Toshiba, Fujitsu, TI, Senmei eta beste batzuk ere kaltetuak izan ziren.Lurrikararen tsunamiak eragindako hornikuntza-katearen etenaldiak kaosa eragin zuen materiala harrapatzea bezalako industrietan eta hainbat osagairen prezioak igo zituen, DRAM, NAND, MCU eta abar barne.

Lurrikararen eraginez, Xinyueko landare kimiko batzuk bertan behera geratu dira.SUMCO, beste ostia ekoizle bat, Kyushu-n dago batez ere, baina ipar-ekialdean lantegi miser bat dauka.Renesa Electronics-ek esan zuen Mizawako lantegiaren eta Takazakiko lantegiaren funtzionamenduak ez zuela eraginik izan, eta Ibaraki Nakako lantegiak denbora laburrean gelditu zituen lanak eta 16an hasi zen apurka-apurka front-end fabrikazio-prozesuaren ekoizpena berreskuratzen, aurreikuspenen arabera. -Astebete barru lurrikararen ahalmena.

Bank of China Securities-eko Zhao Qi taldeak hilaren 18an jakinarazi zuenez, gaur egun, Lurrikararen eragina 2011ko martxoaren 11n Lurrikararena baino askoz txikiagoa da, baina erdieroaleen gaitasun eskasaren testuinguruan, Japoniako Lurrikarak ekarritako nahastea industria-kateak ahalmen-tentsioa are gehiago areagotu dezake, batez ere automobilgintzako txipak.

Photoresist-en diseinuarekin zerikusia duten akzio-enpresek

Etxeko fotoresist teknologiaren garapen-mailaren arabera, gaur egun, etxeko g-line eta I-line photoresist-en tasa autosufizientea % 20 da, KRF photoresist-a % 5 baino txikiagoa da, eta ARF photoresist 12 hazbetekoetarako egokia den bitartean. siliziozko obleak, funtsean, inportazioen araberakoak dira, eta foto-erresistentziaren lokalizazioak bide luzea du egiteko, beraz, garrantzi handia du "lepoa itsatsi"-aren atzerako egoera ahalik eta lasterren haustea.

Jingrui-k (300655) urtarrilaren 19ko arratsaldean iragarri zuen ASMLXT1900G litografia-makina bat arrakastaz erosi zuela inportazio-agente baten bidez, Suzhoura bidalitakoa eta konpainiaren goi-mailako erresistentzia fotorresistenten ikerketa eta garapen laborategira arrakastaz eraman duena.

Nanda Optoelectronics (300346) iazko abenduan iragarri zuen, Ningbo Nanda Optoelectronics filialak ArF photoresist produktuak modu independentean garatu berritan arrakastaz gainditu zuen bezeroaren ziurtagiria, produktuaren egiaztapenaren bidez lehen ArF fotorresistentea bihurtuz.

Tongcheng New Materials (603650) iazko abenduan iragarri zuen bere filiala Tongcheng Electronics-ek 569,88 milioi yuan (eraikuntzako inbertsioa) inbertitzeko asmoa duela 11.000 tona erdieroaleen urteko ekoizpen-proiektua eraikitzeko, panel lauko pantailarako fotorresistentzia eta erlazionatutako 20.000 tona. erreaktiboak Shanghai Chemical Industrial Zonen, 2021aren amaieran amaitu eta ekoitziko direla espero da.

Iturria:Zientzia eta Teknologia Berrikuntza Batzordea Egunero he Luheng